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能量色散X射线荧光分析仪
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SEA6000VX的特长及测量案例
WEEE、RoHS、ELV对应机型
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原理解说
应用技术
X射线荧光膜厚测量仪(SFT)
 等离子体发射光谱仪(ICP)
热分析、粘弹性仪(TA)
原子力显微镜(SPM)
聚焦离子束(FIB)
光掩膜修复(SIR)
       
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首页>产品一览>X射线荧光元素分析仪(SEA)> 新产品 SEA6000VX>SEA6000VX特点2
 
对应各种要求的微小区域、高灵敏度测量
 
连续多点测量

最多可指定500个测量位置进行自动多点连续测量。在测量大量的样品时可发挥高效率。
连续多点测量

最多500个样品自动测量功能让操作更省力。

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RoHS分析例子

通过使用微小X射线线束,对复合样品也可进行特定部位的测量。

■CU合金中的Cd分析案例
CU合金中的Cd分析案例

■导线材料中的Cd分析案例

导线材料中的Cd分析案例
快速扫描微小区域的微量金属

可在短时间内测量微小区域中的微量金属和薄膜。

  黄铜中Cd,Pb,Cr Sn中Pb 塑料中Cd,Pb,Hg,Br,Cr
3mm 80sec 40sec 70sec
1.2mm 150sec 40sec 80awc

Cd 为30ppm,其它元素为200ppm检测下限时的测量时间。

 
印刷线路板中氯浓度的测量

针对无卤化测量的需求,即使是微小区域中的Cl、Br的测量也实现了高灵敏度。 另外,由于采用上方照射的方式,即使对于凹凸不平的印刷线路板,也可精确地指定测量位置。

印刷线路板中氯浓度的测量
微小区域膜厚测量

SEA6000VX也可对应SFT系列公认的镀层膜厚测量。极薄Au镀层等的膜厚测量自不必说,就连镀层中含有的Pb等的有害物质分析与膜厚测量也可同时进行。例如,可进行无铅焊锡镀层和引线架的Sn镀层,无电解Ni镀层中含有的有害物质的浓度测量。

■Sn-Ag/Cu的膜厚、组成比测量

皮膜中的有害物质分析(Pb)                
分析范围:o1.2mm                       
薄膜FP法                            
测量时间:100秒(Pb滤波器)
               30秒(无滤波器)

■Au/Ni/Cu的膜厚测量

测量面积:o0.2mm
标准曲线法
测量时间:30秒

微小区域膜厚测量

 

 

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